Auto500GB真空镀膜系统 用于DC和RF溅射 Auto500GB真空镀膜系统可被装配为研究型溅射系统,设备可安装*多3个溅射源同时允许用户选择DC和RF电源。工艺气体和工装夹具可选为工艺提供了*大便利.
Auto500GB多工艺应用
Auto500GB 可适应多种应用. FL500大型腔室可容纳EB3电子束蒸发源,溅射源和热阻蒸发源,使用户在不破坏真空的环境下运用不同的技术进行多次膜沉积. 系统还可提供辉光放电清洗和基板加热以及膜厚监测和控制.
HHV Auto500GB沉积系统集成于手套箱内
Auto500GB设计集成于手套箱内. 系统安装了特殊的腔体,前置开门可在手套箱内取放产品,后置铰链门用于设备维修. 蒸发源带温度控制,可用于有机材料的沉积
真空系统 600l/s 扩散泵 500l/s 涡轮分子泵 450l/s 干泵和涡轮分子泵 1500l/s 冷凝泵 14.3m3/h 油封旋片泵和液氮冷井.
**控制
触屏式PLC 真空系统控制 自动高真空工艺阀门保护 完善的**互锁 Auto500 CE认证